恒奧德儀器旋轉(zhuǎn)涂勻膠機(jī)操作原理 （旋轉(zhuǎn)涂覆設(shè)備）通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力將光刻膠均勻涂覆于硅片表面。其核心操作原理和步驟如下： ? 操作原理 ?真空吸附固定基片? 基片通過(guò)真空吸附固定在承片臺(tái)，避免滴膠過(guò)程中基片移位。 ? ?滴膠控制? ?靜態(tài)滴膠?：基片靜止時(shí)滴加光刻膠，適用于黏度較高的膠體。 ?動(dòng)態(tài)滴膠?：邊旋轉(zhuǎn)邊滴膠，改善潤(rùn)濕性差的材料覆蓋效果。 ? ?高速旋轉(zhuǎn)鋪展? 通過(guò)主軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)基片以1500-6000轉(zhuǎn)/分鐘的高速旋轉(zhuǎn)，離心力使光刻膠均勻鋪展至整個(gè)表面。 ? ?去除多余膠液? 通過(guò)上下刮邊技術(shù)清除基片邊緣的多余膠體，防止“邊圈缺陷"形成。 ? ?溶劑揮發(fā)干燥? 在恒定轉(zhuǎn)速下，溶劑逐漸揮發(fā)，最終形成干燥的光刻膠膜。 ? 工藝參數(shù)影響 ?轉(zhuǎn)速與時(shí)間?：直接影響膜厚均勻性，轉(zhuǎn)速偏差±50轉(zhuǎn)/分鐘可能導(dǎo)致膜厚波動(dòng)10%。 ? ?光刻膠黏度?：黏度越高需更高轉(zhuǎn)速或延長(zhǎng)旋轉(zhuǎn)時(shí)間。 ? ?環(huán)境溫濕度?：需控制在特定范圍內(nèi)（如溫度23±2℃，濕度45±5%）以減少揮發(fā)不均。 ? 現(xiàn)代設(shè)備通過(guò)精密控制加速度（如線性加速）、密閉排風(fēng)系統(tǒng)及真空吸附參數(shù)，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)膜厚一致性
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